Kiến trúc 10nm SuperFin trong Tiger Lake sẽ giúp Intel lấy lại "mặt mũi" trước AMD?

Tiz
Ngày đăng: 26/08/2020-Cập nhật: 26/08/2020

Kiến trúc CPU 10nm tiếp theo của Intel không còn được đặt tên là 10nm+ nữa mà được gọi là 10nm SuperFin với nhiều cải tiến lớn hứa hẹn mang đến hiệu suất vượt trội.
Trước tiên để tìm hiểu về kiến trúc mới của Intel, chúng ta nên tìm hiểu tiến trình hay node tiến trình có ý nghĩa gì. Thực tế thì hiện tại tên gọi của tiến trình không chỉ bất kỳ một kích thước nào bên trong con chip cả, nó mang ý nghĩa marketing là chính. Các bạn có thể tham khảo thêm về ý nghĩa của tiến trình trong bài viết “Bạn đã hiểu đúng về tiến trình 7nm, 10nm? Có thật con số này càng nhỏ thì càng tốt?” để tiếp tục tìm hiểu về kiến trúc 10nm SuperFin mới của Intel sẽ xuất hiện trên dòng Tiger Lake.
CPU Tiger Lake 10nm SuperFin của Intel có thể đạt xung nhịp lên đến 5.0 GHz
Kiến trúc 10nm đầu tiên của Intel với nhân Sunny Cove có IPC (hiểu đơn giản là hiệu năng/xung nhịp, hay hiệu quả xử lý) rất tốt, tăng khoảng 15 - 20%, tuy nhiên xung nhịp lại giảm 10 - 20%, nên cuối cùng hiệu năng của những con chip 10nm không thực sự cải thiện so với 14nm trước đó.


Những cải tiến của 10nm SuperFin
10nm SuperFin còn được gọi tắt là 10SF sử dụng thiết kế FinFET thế hệ thứ 4 của Intel. Nếu các bạn chưa biết FinFET là gì thì có thể tham khảo lại trong bài viết “Bạn đã hiểu đúng về tiến trình 7nm, 10nm? Có thật con số này càng nhỏ thì càng tốt?” như mình đã đề cập đến ở đầu bài. Về cơ bản thì đây là thiết kế cổng (Gate) dạng Fin (vây cá) thay vì dạng phẳng như hồi 22nm trở về trước.
- Kiến trúc nguồn - cực cổng nâng cao và quy trình sản xuất cực cổng (Gate) được cải tiến tăng tính linh động, cho phép các sóng mang điện tích di chuyển nhanh hơn, tức thời gian di chuyển điện tích giữa cực drain và cực source ngắn hơn, từ đó giúp tăng số lần tắt bật từ đó tăng xung nhịp và cải thiện hiệu suất.

- Tăng độ cao của cổng để kiểm soát trạng thái tắt bật của bóng bán dẫn tốt hơn. Việc tăng chiều dài cổng nghe thì có vẻ như đi ngược với việc thu nhỏ tiến trình, nhưng thực tế thì điều này giúp cho bóng bán dẫn cần ít bộ đệm hơn, nên nhìn chung thì vẫn thu nhỏ kích thước, trên tiến trình 14nm Intel cũng đã từng áp dụng cách này.
- Intel cũng thay đổi vật liệu của cực source và drain để làm cho điện trở thấp hơn tới 30%, từ đó giảm được lượng điện năng tiêu thụ, giảm lượng nhiệt tỏa ra, điều này giúp cho CPU có thể hoạt động ở xung nhịp cao trong thời gian dài.
- Intel còn giới thiệu một tụ điện SuperMIM (metal-insulator-metal) cho điện dung cao hơn gấp 5 lần so với những MIM tiêu chuẩn hiện có. Intel tuyên bố rằng đây là thiết kế đầu tiên và hàng đầu trong ngành, được sản xuất thông qua việc lắng đọng cẩn thận các vật liệu Hi-K mới trong các lớp mỏng hơn 0.1nm, để tạo thành một siêu mạng giữa hai hoặc nhiều loại vật liệu.



(0 lượt đánh giá - 5/5)
Bình luận (0)